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简述ITO蚀刻膏的化学蚀刻法工艺  在绝大多数的场合中,化学蚀刻法是ITO图形制备非常成熟和可行的技术,它可以根据你的需要,生成目前足够精细的图案和相对比较少的前期投资。随着深紫外线技术在曝光设备上的应用,微米的精度,早已被大多数厂家所实现。  化学蚀刻法有高效率、批次稳定性和重复性好、设备投资额低、配套技术完善等诸多优点,目前仍是大规模生产的主要方向,使用的原料有蚀刻膏、抗蚀油墨、光刻胶三种。
发布时间: 2019 - 01 - 15
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二氧化硅蚀刻膏厂家讲述二氧化硅的物理性质  二氧化硅又称硅石,化学式SiO₂。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。  结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。纯石英为无色晶体,大而透明棱柱状的石英叫水晶。若含有微量杂质的水晶带有不同颜色,有紫水晶、茶晶等。普通的砂是细小的石英晶体,有黄砂(较多的铁杂质)和白砂(杂质少、较纯净)。二氧化硅晶体中,硅原子的4个价电子与4个氧原子形成4个共价键,硅原子位于正四面体的中心,4个氧原子位于正四面体的4个顶角上,SiO₂是表示组成的简式,仅是表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比。二氧化硅是原子晶体。  自然界存在的硅藻土是无定形二氧化硅,是低等水生植物硅藻的遗体,为白色固体或粉末状,多孔、质轻、松软的固体,吸附性强。
发布时间: 2019 - 01 - 11
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水溶性蚀刻膏的三大使用特性  1、水溶性蚀刻膏油墨属于环保产品,使用方便、操作简单、安全可靠。它的使用可以减少工艺流程,降低成本,同时确保作业场所洁净、空气清新保障工人的身心健康。  2、二氧化硅蚀刻液取代传统硅蚀刻中采用的具有高危险性的氢氟酸,减少管理环节和管理本本,降低有害气体对工人造成的危害。  3、可焊性电子导电铜浆达到行业标准,完全可以取代进口的导电铜浆。
发布时间: 2019 - 01 - 08
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探讨蚀刻膏的化学蚀刻法  化学蚀刻法是在产品电极图形区域内印制是阻蚀油墨保护起来,然后把产品浸入化学蚀刻液中,让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后,再把阻蚀油墨从产品电极图形表面剥离下来,形成产品电极图形。它的线宽和线距做到0.08mm,仍可以达到95%以上的蚀刻良率。这种方法在PCB线路板、薄膜开关、电阻式触摸屏、光伏电池等产品生产上,目前占据主流的地位。  按照最后剥离去的方式不同,阻蚀油墨分为物理剥离型和化学溶液剥离型。其中物理剥离型阻蚀油墨,除了用在电子产品图形制备生产中,更多的是用在产品表面防护上,以阻止外力损伤产品,隔绝外面环境中的水、电、气,防止它们腐蚀产品。其中在电子行业里应用最多的就是电路板绝缘保护胶,和触摸屏生产中的表面保护胶。由于物理剥离型阻蚀油墨,如果在产品转序过程中,需要去除的话,是使用物理外力撕下剥离的,所以一般它的丝印厚度要求在化学溶液剥离型阻蚀油墨的丝印厚度的二到三倍以上,并且在固化程度上,不能象化学溶液剥离型阻蚀油墨一样,只要达到表面固化即可,也要求一定要完全固化,这样在生产的后续加工过程中,边缘部分不会因为挤压而变形破裂,在需要移除的时候,产生边缘残留。在触摸屏的生产过程中,表面保护胶的边缘残留,是影响产品生产效率和品质良品率的主要因素之一。
发布时间: 2019 - 01 - 04
浏览次数:19
浅析水溶性蚀刻膏的优势  1、水溶性蚀刻油墨属于环保产品,使用方便、操作简单、安全可靠。它的使用可以减少工艺流程,降低成本,同时确保作业场所洁净、空气清新保障工人的身心健康。  2、二氧化硅蚀刻液取代传统硅蚀刻中采用的具有高危险性的氢氟酸,减少管理环节和管理本本,降低有害气体对工人造成的危害。  3、可焊性电子导电铜浆达到行业标准,完全可以取代进口的导电铜浆。
发布时间: 2018 - 12 - 31
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浅析ITO蚀刻膏的光刻胶工艺  化学蚀刻方法在线宽线距要求在0.07mm以下的产品生产过程中,上面的两种方式就很难达到要求了,这时就需要一种更为精细的化学蚀刻方式,光刻胶化学蚀刻。  光刻胶又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构,光刻胶可以分为三种类型。①光聚合型,采用烯类单体,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合,再生成聚合物,具有形成正像的特点。②光分解型,采用含有叠氮醌类化合物的材料,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以制成正性胶。③光交联型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。
发布时间: 2018 - 12 - 29
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水性环保蚀刻膏的要求  1.印刷目的(50T至150T),网板感光胶务必用水性耐酸型,印刷厚度保在15-20UM之间。  2.玻璃(ITO)蚀刻温度,130-150度,蚀刻时间为15-20分钟。  3.薄膜(ITO)蚀刻温度,15-100度,蚀刻时间为15-20分钟。  4.针对不同型叼规格的材料和生产条件合理选用I型,II型,III型蚀刻膏,大部分膜可以免除烘烤环节,自然温度下能在20分钟之内蚀刻完成。  5.蚀刻完用清水冲洗即可,如用3%碱液+超声波清洗,效果更佳。  6.蚀刻膏使用前要搅拌均匀,防止粘度不均匀造成印刷后扩散。  7.产品如使用中感觉稀,可敞开放置1小时左右媃中,如感觉粘度过大,可加适量清水稀释,不影响产品性能。  8.生产环境温度控制在15-30度,湿度40-75%为佳  9.产品存放在阴凉干燥处,避免阳光照射。保质期12个月。
发布时间: 2018 - 12 - 26
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蚀刻膏的基本介绍  蚀刻膏呈膏状,无毒、无腐蚀性挥发气体,产品成分对人体、环境不构成危害,符合Rohs 环保标准、通过SGS 认证。  蚀刻膏针对电子产品电路板表面的导电膜进行刻蚀的新材料,运用在氧化锌膜、铝膜、氧化锡膜、氧化铟锡等导电膜,完成不同材料导电层的蚀刻。适用于液晶显示器、电子触摸屏、太阳能电池等产品。  蚀刻膏具有简化生产工艺,提高生产效率、节省时间,提高产品质量,且具备无气味、环保、作业场地清洁等特点。
发布时间: 2018 - 12 - 21
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二氧化硅蚀刻膏正确的使用方法  使用前要搅拌均匀,印刷同一般印刷要领无特殊条件,膏体因长时间停留在网版上不印刷应收起油墨清洗网版再重新印刷(长时间膏体的停留会有渗透、脏污等问题),对低方阻的玻璃,及薄膜用蓝刀印刷目的稍微增加膏体厚度,保证有足够的蚀刻能量,高方阻则可用黄刀能保证很高的印刷精度。  通过实验可达到0.02mm的线,而且膏体饱满,不段点,无气孔,无渗透。在湿度70h温度25摄氏度环境下,180分钟不扩散,使生产周转时间,对油性网版,水性网版及钢网网版无伤害,已实验膏体停留超过24小时,网版仍无有脱感光胶现象对钢网无腐蚀现象,印刷及效果如初。
发布时间: 2018 - 12 - 19
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