蚀刻膏的四大工艺要求 1、使用前先将干法蚀刻膏搅拌2--5分钟，防止粘度不均匀造成印刷后扩散; 2、丝网网目为100-380目：丝网印刷速度控制在30cm/秒左右，刮刀速度要保证下墨量。丝网制作完毕后严格检查丝网，防止有漏网的缺陷，造成ITO导电膜保留面的损伤; 3、蚀刻反应速度随温度的提升而加快，可根据生产需要做必要的调整; 4、脱膜工艺参数：用自来水或纯水浸泡5-15分钟左右(或经超声波槽浸泡可缩短浸泡时间);
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ITO蚀刻膏的光刻胶工艺 化学蚀刻方法在线宽线距要求在0.07mm以下的产品生产过程中，上面的两种方式就很难达到要求了，这时就需要一种更为精细的第三种化学蚀刻方式，光刻胶化学蚀刻。 光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。
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ITO蚀刻膏的分类 1.蚀刻剂产品根据蚀刻条件的不同分为红、白、蓝三种颜色; 2.蚀刻剂产品封装2小时后蚀刻剂不具有流动性,方便运送和保管; 3.包装灌分别为：5公斤、1公斤、0.1-0.18公斤(样品装)。
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ITO蚀刻膏的工艺要求及注意事项 1、使用前先将干法蚀刻膏搅拌2--5分钟，防止粘度不均匀造成印刷后扩散; 2、丝网网目为100-380目：丝网印刷速度控制在30cm/秒左右，刮刀速度要保证下墨量。丝网制作完毕后严格检查丝网，防止有漏网的缺陷，造成ITO导电膜保留面的损伤; 3、蚀刻反应速度随温度的提升而加快，可根据生产需要做必要的调整; 4、脱膜工艺参数：用自来水或纯水浸泡5-15分钟左右(或经超声波槽浸泡可缩短浸泡时间); 注意事项： 1、防止溅入眼睛，如不慎发生可用蒸馏水冲洗。 2、丝印完毕后用自来水将丝网冲洗干净，并用纯净的压缩空气吹干; 3、禁止使用除水以后的任何溶剂进行丝网清洗，否则会造成溶剂与干法蚀刻剂反应，堵塞网孔。
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蚀刻膏的使用方法及性能 使用前必须搅拌均匀，印刷同一般印刷要领无特殊条件，膏体因长时间停留在网版上不印刷应收起油墨清洗网版再重新印刷(长时间膏体的停留会有渗透、脏污等问题)，对低方阻的玻璃，及薄膜用蓝刀印刷目的稍微增加膏体厚度，保证有足够的蚀刻能量，高方阻则可用黄刀能保证很高的印刷精度。通过实验可达到0.02mm的线，而且膏体饱满，不段点，无气孔，无渗透。在湿度70h温度25摄氏度环境下，180分钟不扩散，使生产周转时间，对油性网版，水性网版及钢网网版无伤害，已实验膏体停留超过24小时，网版仍无有脱感光胶现象对钢网无腐蚀现象，印刷及效果如初。 此款蚀刻膏是有机合成膏体，每500片投料产生的外排污染相当于洗衣机一次排水的污染，应用于氧化铟锡，结晶，半结晶，材料。应用于TP TN STN低方阻，高方阻材料。印刷精度可达到500目透版的线点精度。
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ITO蚀刻膏的优势特点 1、提高触摸屏蚀刻精度，线宽最小可达到50um;杜绝各类酸碱性物质对ITO的损害，提高产品良品率，产品性能可完全满足电容屏和电阻屏需求。 2、经济：节省人工、降低物料消耗,提高产品竞争力。 3、环保：针对传统工艺,减少大量废酸碱处理和排放,整个工艺无腐蚀性挥发气体,使用过程对人体及环境不构成危害。 4、安全：本蚀刻膏有良好的亲水性,可用自来水喷淋方式对与之接触的器具进行清洗,且清洗后无任何残留，避免了传统工艺需用溶剂类洗网水清洗机具和网板时对人和环境的伤害及防火安全。 5、对ITO玻璃或ITO薄膜有良好的覆着力,印刷后无扩散,无收缩,无气泡。 6、简化工艺流程,提高产量和良品率。
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ITO蚀刻膏的工艺流程 一、丝网印刷涂布蚀刻图形 1、丝网选择通用型蚀刻膏380-450网目，精刻牌蚀刻膏选用180-250网目;印刷速度控制在30cm/秒左右，刮刀速度要保证下墨量。严格检查丝网，防止有漏网的缺陷，避免造成ITO导电膜保留面的损伤。若蚀刻细线条，网板的目数可选择450目，若下墨量足够可蚀刻至0.03mm。 二、烘烤或过UV机 2、蚀刻速度随温度的提升而加快，FILM ITO导电膜(结晶膜)的蚀刻温度建议在100-110℃条件下，20分钟均可完成蚀刻，非结晶软膜80-110℃条件下15分钟完成蚀刻。CLASS ITO导电膜蚀刻温度在120-150℃条件下，10-30分钟完成蚀刻，若极个别的导电膜在上述时间段还刻不透，可适当再延长蚀刻时间。 三、超声波浸泡脱膜 3、用水浸泡脱膜或调高水温60℃左右，浸泡5分钟脱膜，或直接过清洗线喷淋、纯水冲洗、风刀风干也可。 四、喷淋/风刀除水/蚀刻完成 4、若不浸泡，可在清洗线水池内加1%氢氧化钠并加温60℃左右，经水帘、喷淋、水刀、风刀即可。
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ITO蚀刻膏新工艺的几大优势： ITO蚀刻膏新工艺蚀刻方法具有比传统蚀刻方法更好的优势,蚀刻膏印刷后不需再经强酸碱处理,不会污染环境,生产方便。有如下特点: 1、提高触摸屏蚀刻精度，线宽最小可达到50um;杜绝各类酸碱性物质对ITO的损害，提高产品良品率，产品性能可完全满足电容屏和电阻屏需求。 2、经济：节省人工、降低物料消耗,提高产品竞争力。 3、环保：针对传统工艺,减少大量废酸碱处理和排放,整个工艺无腐蚀性挥发气体,使用过程对人体及环境不构成危害。 4、安全：ITO蚀刻膏有良好的亲水性,可用自来水喷淋方式对与之接触的器具进行清洗,且清洗后无任何残留，避免了传统工艺需用溶剂类洗网水清洗机具和网板时对人和环境的伤害及防火安全。 5、对ITO玻璃或ITO薄膜有良好的覆着力,印刷后无扩散,无收缩,无气泡。 6、简化工艺流程,提高产量和良品率。
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ITO蚀刻膏新老工艺对比 ITO蚀刻膏是生产电子产品电路板表面的导电膜进行刻蚀的新工艺，适用于氧化锌膜、氧化锡膜、氧化铟锡(ITO)膜的蚀刻，新工艺简化生产流程，提高了生产效率和工人积极性，具备无气味、环保、作业场地清洁等特点。 ITO蚀刻膏适用于液晶显示器、电子触摸屏、太阳能电池、手机、电视机、游戏机以及LED等电子产品电路板表面的导电膜刻蚀。 1、传统工艺用耐酸油墨流程(七道工序)： 丝印(耐酸油墨)→晾干→酸液(强酸)浸泡(浸泡腐蚀未被耐酸油墨覆盖的氧化锌、氧化锡及氧化铟锡导电膜)→过清水清洗→碱水(强碱)浸泡清洗(除去耐酸油墨)→初步水洗→纯净水清洗机清洗。 2、新工艺用干法蚀刻膏流程(四道工序)： 丝印(刻蚀膏)→烘烤(60℃--160℃)-→初步水洗→纯净水清洗机清洗。
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