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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-310
    发泡芯材（高能胶）/HR-310
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于运动器材握柄，与制品一体成型，代替PU发泡；节省灌注设备投入，避免后工序作业时产品外观的碰伤损坏。
    用于运动器材握柄。在预型时将高能胶HR-310包裹在粗胚柄部位置，根据需要缠绕1-2圈，放入模具中与制品一体成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-312-W
    发泡芯材（高能胶）/HR-312-W
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于网球拍、羽毛球拍等运动器材，各种复合板材、管材的成型。
    用于网球拍、羽毛球拍等运动器材，各种复合板材、管材的成型。根据需要裁切一定量的高能胶，按照结构设计将高能胶HR-312-W包裹在碳纤预浸布的里面，然后放入模具成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-313
    发泡芯材（高能胶）/HR-313
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于无人机、运动器材、轨道交通等所有夹芯结构的成型。
    应用于无人机、运动器材、轨道交通等所有夹芯结构的成型。根据需要裁切一定量的高能胶，放入预型模具中150℃加热10分钟，再根据结构设计包裹碳纤预浸布，然后放入模具成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-318
    发泡芯材（高能胶）/HR-318
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于无人机、医疗器材制品成型。
    应用于无人机、医疗器材制品成型。可以根据制品形状裁切高能胶HR-318，然后包裹碳布预浸料；或者与其他夹芯材料（如蜂窝）配合，提高与碳布的结合力。
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-320
    发泡芯材（高能胶）/HR-320
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于网球拍月眉、厚制件板材等成型。
    应用于网球拍月眉、厚制件板材等成型。可以根据制品厚度选择不同规格的高能胶HR-320，依据结构设计包裹碳布预浸料，放入模具成型。详见操作视频：
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ITO蚀刻膏厂家浅析ITO的特性

日期： 2018-09-07
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　　ITO蚀刻膏厂家浅析ITO的特性

　　ITO就是在In2O3里掺入Sn后，Sn元素可以代替In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形式存在，因为In2O3中的In元素是三价，形成SnO2时将贡献一个电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，形成1020至1021cm-3的载流子浓度和10至30cm2/vs的迁移率。这个机理提供了在10-4Ω.cm数量级的低薄膜电阻率，所以ITO薄膜具有半导体的导电性能。

　　目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常Sn2O3： In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度已不够好--虽然导电性能很好。
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二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅在各行业的应用
二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅在各行业的应用
2019 - 06 - 24
二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅在各行业的应用　　1.陶瓷及耐火材料　　瓷器的胚料和釉料，窑炉用高硅砖、普通硅砖以及碳化硅等的原料　　2.冶金　　硅金属、硅铁合金和硅铝合金等的原料或添加剂、熔剂　　3.建筑　　混凝土、胶凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能检验材料(即水泥标准砂)等　　4.化工　　硅化合物和水玻璃等的原料，硫酸塔的填充物，无定形二氧化硅微粉　　5.机械　　铸造型砂的主要原料，研磨材料(喷砂、硬研磨纸、砂纸、砂布等)　　6.电子　　高纯度单晶硅(非金属)、通讯用光纤等
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氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺
氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺
2019 - 06 - 18
氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺　　氮化硅制品按工艺可以分为反应烧结制品、热压制品、常压烧结制品、等静压烧结制品和反应重烧制品等。其中，反应烧结是一种常用的生产氮化硅耐火制品的方法。　　反应烧结法生产氮化硅制品是将磨细的硅粉(粒度一般小于80μm)，用机压或等静压成型，坯体干燥后，在氮气中加热至1350～1400℃，在烧成过程中同时氮化而制得。采用这种生产方法，原料条件和烧成工艺及气氛条件对制品的性能有很大的影响。　　硅粉中含有许多杂质，如Fe，Ca，Aì，Ti等。Fe被认为是反应过程中的催化剂。它能促进硅的扩散，但同时，也将造成气孔等缺陷。Fe作为添加剂的主要作用：在反应过程中可作催化剂，促使制品表面生成SiO2氧化膜;形成铁硅熔系，氮溶解在液态FeSi2中，促进β-Si3N4的生成。但铁颗粒过大或含量过高，制品中也会出现气孔等缺陷，降低性能。一般铁的加入量为0～5%。Al，Ca，Ti等杂质，易与硅形成低共熔物。适当的添加量，可以促进烧结，提高制品的性能。　　硅粉的粒度越细，比表面积越大，则可降低烧成温度。粒度较细的硅粉与粒度较粗的硅粉相比，制品中含α- Si3N4的量增高。降低硅粉的粒径，可以降低制品的显微气孔尺寸。适当的粒度配比，可以提高制品密度。
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二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途
二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途
2019 - 06 - 13
二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途　　二氧化硅用于制造平板玻璃，玻璃制品，铸造砂，玻璃纤维，陶瓷彩釉，防锈用喷砂，过滤用砂，熔剂，耐火材料以及制造轻量气泡混凝土。 二氧化硅的用途很广。自然界里比较稀少的水晶可用以制造电子工业的重要 部件、光学仪器和工艺品。　　二氧化硅是制造光导纤维的重要原料。 一般较纯净的石英，可用来制造石英玻璃。石英玻璃膨胀系数很小，相当于 普通玻璃的1/18，能经受温度的剧变，耐酸性能好(除HF外)，因此，石英玻璃 常用来制造耐高温的化学仪器。 石英砂常用作玻璃原料和建筑材料。
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氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标
氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标
2019 - 06 - 10
氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标　　氮化硅的详细性能指标如下：　　1、耐热，在常压下，Si3N4没有熔点，于1870℃左右直接分解，可耐氧化到1400℃，实际使用达1200℃(超过1200℃力学强度会下降)。　　2、热膨胀系数小(2.8-3.2)×10-6/℃，导热系数高，抗热震，从室温到1000℃热冲击不会开裂。　　3、摩擦系数小(0.1)，有自润滑性，(加油的金属表面摩擦系数0.1-0.2)。　　4、化学性质稳定，耐腐蚀，除氢氟酸外不与其他其他无机酸反应，800℃干燥气氛下不与氧发生反应，超过800℃，开始在在表面生成氧化硅膜，随着温度升高氧化硅膜逐渐变稳定，1000℃左右可与氧生成致密氧化硅膜。可保持至1400℃基本稳定。　　5、氮化硅硬度高，耐磨损，莫氏硬度仅次于金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅，抗机械冲击。　　6、氮化硅是共价键化合物，很难致密，有时需外加助剂，密度约为3.4(不同成型方法致密度不一样，热压成型致密度较高，钢的密度约为7.85，钛合金的密度约为4.5左右，单位均为g/cm3)。　　7、脆性大，可采用氮化硅纤维增韧，使其高温强度稳定。
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ITO蚀刻膏的工艺要求
ITO蚀刻膏的工艺要求
2019 - 06 - 03
ITO蚀刻膏的工艺要求　　1、使用前先将干法蚀刻膏搅拌2--5分钟，防止粘度不均匀造成印刷后扩散;　　2、丝网网目为100-380目：丝网印刷速度控制在30cm/秒左右，刮刀速度要保证下墨量。丝网制作完毕后严格检查丝网，防止有漏网的缺陷，造成ITO导电膜保留面的损伤;　　3、蚀刻反应速度随温度的提升而加快，可根据生产需要做必要的调整;　　4、脱膜工艺参数：用自来水或纯水浸泡5-15分钟左右(或经超声波槽浸泡可缩短浸泡时间);
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