ITO蚀刻膏的工艺解析
1、蚀刻膏工艺
化学蚀刻法有以下几种方式实现：一种是直接在产品电极图形区域外印制蚀刻膏，等反应完全后，用蚀刻膏溶剂，一般是水清洗干净，留下所需的电极图形。这种方式对于一些线宽和线距要求在0.2mm以上的光电产品如低档TN显示器、电阻式触摸屏、按键式电容屏、光伏电池等，因为不用耗费大量的化学物品，对环境污染影响更小，节省大量水、电费、场地费用，前期投资费用低廉，一般的丝印行业就可以掌握大部分技术等因素，有日趋发展的势头。它主要的控制点就在于温度对于蚀刻速度的控制，设计时要充分考虑边缘效应这两点上，一般可以用比较简单的工场实地实验，就可以得到比较准备的参数。
2、抗蚀油墨工艺
化学蚀刻法第二种方法，刚好与第一种相反，它是在产品电极图形区域内印制是阻蚀油墨保护起来，然后把产品浸入化学蚀刻液中，让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后，再把阻蚀油墨从产品电极图形表面剥离下来，形成产品电极图形。它的线宽和线距做到0.08mm，仍可以达到95%以上的蚀刻良率。这种方法在PCB线路板、薄膜开关、电阻式触摸屏、光伏电池等产品生产上，目前占据主流的地位。