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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-310
    发泡芯材（高能胶）/HR-310
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于运动器材握柄，与制品一体成型，代替PU发泡；节省灌注设备投入，避免后工序作业时产品外观的碰伤损坏。
    用于运动器材握柄。在预型时将高能胶HR-310包裹在粗胚柄部位置，根据需要缠绕1-2圈，放入模具中与制品一体成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-312-W
    发泡芯材（高能胶）/HR-312-W
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于网球拍、羽毛球拍等运动器材，各种复合板材、管材的成型。
    用于网球拍、羽毛球拍等运动器材，各种复合板材、管材的成型。根据需要裁切一定量的高能胶，按照结构设计将高能胶HR-312-W包裹在碳纤预浸布的里面，然后放入模具成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-313
    发泡芯材（高能胶）/HR-313
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于无人机、运动器材、轨道交通等所有夹芯结构的成型。
    应用于无人机、运动器材、轨道交通等所有夹芯结构的成型。根据需要裁切一定量的高能胶，放入预型模具中150℃加热10分钟，再根据结构设计包裹碳纤预浸布，然后放入模具成型。详见操作视频：
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-318
    发泡芯材（高能胶）/HR-318
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于无人机、医疗器材制品成型。
    应用于无人机、医疗器材制品成型。可以根据制品形状裁切高能胶HR-318，然后包裹碳布预浸料；或者与其他夹芯材料（如蜂窝）配合，提高与碳布的结合力。
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  • 发泡芯材（高能胶）/HR-320
    发泡芯材（高能胶）/HR-320
    发布时间: 2017 - 05 - 24
    应用于网球拍月眉、厚制件板材等成型。
    应用于网球拍月眉、厚制件板材等成型。可以根据制品厚度选择不同规格的高能胶HR-320，依据结构设计包裹碳布预浸料，放入模具成型。详见操作视频：
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氮化硅蚀刻膏的产品介绍以及特点分析

日期： 2017-06-23
浏览次数: 10081

 

　　氮化硅蚀刻膏的产品介绍以及特点分析

　　1.使用工艺使用传统的丝网印刷工艺将刻蚀膏印刷在含有氮化硅蚀刻膏掩膜的基材上，印刷完成后在一定温度下烘烤后,蚀刻氮化硅掩膜。

　　2.性能指标

　　A.基本功能：蚀刻氮化硅掩膜层，且不损伤ITO和Moalmo层;B.良好的印刷性能;

　　C.良好的稳定性：印刷及存储过程中(常温)不变质，且常温不能刻氮化硅蚀刻膏掩膜，烘烤过程中能迅速刻蚀氮化硅掩膜;

　　D.易脱膜：刻蚀完成后易去除。

　　氮化硅蚀刻膏产品特点

　　1，易于清洗，不需要有机洗涤剂

　　,2，冲洗剂的有机和氟化成分低

　　3， 不同厚度的SiO2层在室温下蚀刻约2-5分钟，处理时间越长说明线越宽。

 
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氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺
氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺
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氮化硅蚀刻膏厂家浅述氮化硅制品的生产工艺　　氮化硅制品按工艺可以分为反应烧结制品、热压制品、常压烧结制品、等静压烧结制品和反应重烧制品等。其中，反应烧结是一种常用的生产氮化硅耐火制品的方法。　　反应烧结法生产氮化硅制品是将磨细的硅粉(粒度一般小于80μm)，用机压或等静压成型，坯体干燥后，在氮气中加热至1350～1400℃，在烧成过程中同时氮化而制得。采用这种生产方法，原料条件和烧成工艺及气氛条件对制品的性能有很大的影响。　　硅粉中含有许多杂质，如Fe，Ca，Aì，Ti等。Fe被认为是反应过程中的催化剂。它能促进硅的扩散，但同时，也将造成气孔等缺陷。Fe作为添加剂的主要作用：在反应过程中可作催化剂，促使制品表面生成SiO2氧化膜;形成铁硅熔系，氮溶解在液态FeSi2中，促进β-Si3N4的生成。但铁颗粒过大或含量过高，制品中也会出现气孔等缺陷，降低性能。一般铁的加入量为0～5%。Al，Ca，Ti等杂质，易与硅形成低共熔物。适当的添加量，可以促进烧结，提高制品的性能。　　硅粉的粒度越细，比表面积越大，则可降低烧成温度。粒度较细的硅粉与粒度较粗的硅粉相比，制品中含α- Si3N4的量增高。降低硅粉的粒径，可以降低制品的显微气孔尺寸。适当的粒度配比，可以提高制品密度。
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二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途
二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途
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二氧化硅蚀刻膏厂家浅述二氧化硅的用途　　二氧化硅用于制造平板玻璃，玻璃制品，铸造砂，玻璃纤维，陶瓷彩釉，防锈用喷砂，过滤用砂，熔剂，耐火材料以及制造轻量气泡混凝土。 二氧化硅的用途很广。自然界里比较稀少的水晶可用以制造电子工业的重要 部件、光学仪器和工艺品。　　二氧化硅是制造光导纤维的重要原料。 一般较纯净的石英，可用来制造石英玻璃。石英玻璃膨胀系数很小，相当于 普通玻璃的1/18，能经受温度的剧变，耐酸性能好(除HF外)，因此，石英玻璃 常用来制造耐高温的化学仪器。 石英砂常用作玻璃原料和建筑材料。
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氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标
氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标
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氮化硅蚀刻膏厂家详述氮化硅的性能指标　　氮化硅的详细性能指标如下：　　1、耐热，在常压下，Si3N4没有熔点，于1870℃左右直接分解，可耐氧化到1400℃，实际使用达1200℃(超过1200℃力学强度会下降)。　　2、热膨胀系数小(2.8-3.2)×10-6/℃，导热系数高，抗热震，从室温到1000℃热冲击不会开裂。　　3、摩擦系数小(0.1)，有自润滑性，(加油的金属表面摩擦系数0.1-0.2)。　　4、化学性质稳定，耐腐蚀，除氢氟酸外不与其他其他无机酸反应，800℃干燥气氛下不与氧发生反应，超过800℃，开始在在表面生成氧化硅膜，随着温度升高氧化硅膜逐渐变稳定，1000℃左右可与氧生成致密氧化硅膜。可保持至1400℃基本稳定。　　5、氮化硅硬度高，耐磨损，莫氏硬度仅次于金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅，抗机械冲击。　　6、氮化硅是共价键化合物，很难致密，有时需外加助剂，密度约为3.4(不同成型方法致密度不一样，热压成型致密度较高，钢的密度约为7.85，钛合金的密度约为4.5左右，单位均为g/cm3)。　　7、脆性大，可采用氮化硅纤维增韧，使其高温强度稳定。
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ITO蚀刻膏的工艺要求
ITO蚀刻膏的工艺要求
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ITO蚀刻膏的工艺要求　　1、使用前先将干法蚀刻膏搅拌2--5分钟，防止粘度不均匀造成印刷后扩散;　　2、丝网网目为100-380目：丝网印刷速度控制在30cm/秒左右，刮刀速度要保证下墨量。丝网制作完毕后严格检查丝网，防止有漏网的缺陷，造成ITO导电膜保留面的损伤;　　3、蚀刻反应速度随温度的提升而加快，可根据生产需要做必要的调整;　　4、脱膜工艺参数：用自来水或纯水浸泡5-15分钟左右(或经超声波槽浸泡可缩短浸泡时间);
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解析蚀刻膏工艺中化学蚀刻法
解析蚀刻膏工艺中化学蚀刻法
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解析蚀刻膏工艺中化学蚀刻法　　化学蚀刻法有以下几种方式实现：一种是直接在产品电极图形区域外印制蚀刻膏，等反应完全后，用蚀刻膏溶剂，一般是水清洗干净，留下所需的电极图形。　　这种方式对于一些线宽和线距要求在0.2mm以上的光电产品如低档TN显示器、电阻式触摸屏、按键式电容屏、光伏电池等，因为不用耗费大量的化学物品，对环境污染影响更小，节省大量水、电费、场地费用，前期投资费用低廉，一般的丝印行业就可以掌握大部分技术等因素，有日趋发展的势头。它主要的控制点就在于温度对于蚀刻速度的控制，设计时要充分考虑边缘效应这两点上，一般可以用比较简单的工场实地实验，就可以得到比较准备的参数。
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