氮化硅蚀刻膏的产品介绍以及特点分析
1.使用工艺使用传统的丝网印刷工艺将刻蚀膏印刷在含有氮化硅蚀刻膏掩膜的基材上，印刷完成后在一定温度下烘烤后,蚀刻氮化硅掩膜。
2.性能指标
A.基本功能：蚀刻氮化硅掩膜层，且不损伤ITO和Moalmo层;B.良好的印刷性能;
C.良好的稳定性：印刷及存储过程中(常温)不变质，且常温不能刻氮化硅蚀刻膏掩膜，烘烤过程中能迅速刻蚀氮化硅掩膜;
D.易脱膜：刻蚀完成后易去除。
氮化硅蚀刻膏产品特点
1，易于清洗，不需要有机洗涤剂
,2，冲洗剂的有机和氟化成分低
3， 不同厚度的SiO2层在室温下蚀刻约2-5分钟，处理时间越长说明线越宽。